Mattschwarze Pulverlackoberfläche
Verfahrensbeschreibung
Hoch belastbare Trockenschmierung für dauerhafte Reibungsreduktion, Notlaufeigenschaften oder Geräuschdämpfung bei Gleitgeräuschen von Reibpartnern
Performance
Molybdändisulfid wird bei Gleitlacken (Anti-Friction-Coatings) als Trockenschmierstoff, insbesondere für hohe Belastungszustände, eingesetzt. Durch den Zusatz keramischer Strukturen oder weiterer Festschmierstoffe kann die tribologische Leistungsfähigkeit anwendungsabhängig weiter gesteigert werden.
MoS₂ kann auch unter Vakuumbedingungen eingesetzt werden und ist dort bis 1100 °C thermisch stabil.
MoS₂-Gleitlacke können auf unterschiedlichste Werkstoffe appliziert werden, wie z.B. hochfeste Stähle, Aluminium- und Titanlegierungen.
Trockenschmierung mit außergewöhnlich hohem Lasttragevermögen und Eignung für den Einsatz unter Vakuumbedingungen
Die Maskierung stellt einen entscheidenden Schritt im Prozess der Pulverbeschichtung dar, um gezielt bestimmte Bereiche von der Beschichtung auszunehmen. Hierbei werden hitzebeständige Klebebänder, Silikonabdeckungen oder Stopfen eingesetzt, die empfindliche oder funktionale Flächen zuverlässig schützen – selbst bei komplexen Geometrien.
Diese Methode bewahrt Gewinde, Dichtflächen, Kontaktstellen und Passungen vor unerwünschter Beschichtung und gewährleistet somit die volle Funktionsfähigkeit der Bauteile nach dem Lackiervorgang.
Eine professionelle Maskierung ist maßgeblich für die Qualität, Passgenauigkeit sowie das ästhetische Erscheinungsbild des Endprodukts verantwortlich. Gleichzeitig reduziert sie den Aufwand für Nachbearbeitungen und minimiert Ausschuss.
Wir beschichten unsere Gleitlackanwendungen für Massenware in horizontalen und vertikalen Tauchschleuder-Beschichtungsanlagen. Für die Präzisionsbeschichtung von Gestellware setzen wir Lackierroboter für Nasslackanwendungen ein. Rotationssymmetrische Bauteile werden auf Spindelanlagen beschichtet.
Gestellverfahren
Tauchschleuderverfahren
Spindelverfahren
Hoch effizienter Beschichtungsprozess zur elektrischen Isolation von Bauteilen in Batteriemodulen, Batteriepacks, Batteriespeichern und weiteren Komponenten in Hochspannungsbereichen.